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  • 行村 建 ID: 9000000793308

    Articles in CiNii:1

    • 同志社大学工学部電気工学科プラズマ応用研究室(行村研究室) (2002)
  • 行村 建 ID: 9000013984513

    Articles in CiNii:1

    • プラズマイオン高度利用プロセス (2003)
  • 行村 建 ID: 9000018351955

    Articles in CiNii:1

    • 紫外線予備電離放電励起KrFレ-ザの電気的特性〔英文〕 (1990)
  • 行村 建 ID: 9000252924609

    同志社大工 (1989 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 (1989)
  • 行村 建 ID: 9000253688831

    同志社大学 (1986 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Cd蒸気中でのコヒーレントVUV光発生 (1986)
  • 行村 建 ID: 9000253689456

    同志社大 (1987 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 その1 (1987)
  • 行村 建 ID: 9000253690071

    同志社大学 (1988 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Development of Highly Damage-Resistant Cavity Mirrors For Rare Gas Excimer Lasers (1988)
  • 行村 建 ID: 9000253692632

    同志社大 (1992 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 その1 (1992)
  • 行村 建 ID: 9000258666274

    同志社工 (2005 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 低温プラズマラジカルインジェクションによる高効率脱硝法の開発 (2005)
  • 行村 建 ID: 9000290362815

    Articles in CiNii:1

    • ミニマルファブのためのプラズマ技術の開発 (2013)
  • 行村 建 ID: 9000331088232

    Articles in CiNii:1

    • Generation of Metal Ions Using Short-Pulse High Power Impulse Magnetron Sputtering (2016)
  • 行村 建 ID: 9000337073050

    Articles in CiNii:1

    • A power coupling simulation of pulsed-sputtering discharges (2016)
  • 行村 建 ID: 9000337073681

    Articles in CiNii:1

    • A power coupling simulation of pulsed-sputtering discharges (2016)
  • 行村 建 ID: 9000347051066

    同志社大学 工学部 (2004 from CiNii)

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    • シャンティングアークの磁気駆動特性 (2004)
  • 行村 建 ID: 9000347052430

    同志社大学 工学部 (2005 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • ターゲット電流・電圧を用いた磁気駆動シャンティングアークのプラズマ密度導出 (2005)
  • 行村 建 ID: 9000356909402

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    • Silicon wafer sample etching by ICIS with 150kHz frequency band (2017)
  • 行村 建 ID: 9000356909444

    Articles in CiNii:1

    • Electrical and Plasma Characteristic of 157 kHz High-power Burst Inductively Coupled Plasma (2017)
  • 行村 建 ID: 9000356909992

    Articles in CiNii:1

    • A high-power Penning glow plasma (2017)
  • 行村 建 ID: 9000356910398

    Articles in CiNii:1

    • Silicon wafer sample etching by ICIS with 150kHz frequency band (2017)
  • 行村 建 ID: 9000356910450

    Articles in CiNii:1

    • Electrical and Plasma Characteristic of 157 kHz High-power Burst Inductively Coupled Plasma (2017)
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