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  • TANI F. ID: 9000003440008

    R & D Center,ShinMaywa Industries,Ltd. (1998 from CiNii)

    Articles in CiNii:7

    • Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method (1997)
    • スパッター法による光学薄膜の開発 (1995)
    • スパッター法による光学薄膜の開発(2) (1996)
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