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  • 隅田 貴士 ID: 9000296674098

    Articles in CiNii:1

    • サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr₂O₃積層膜の成膜条件最適化 (電子デバイス) (2015)
  • 隅田 貴士 ID: 9000296675114

    Articles in CiNii:1

    • サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr₂O₃積層膜の成膜条件最適化 (電子部品・材料) (2015)
  • 隅田 貴士 ID: 9000296675671

    Articles in CiNii:1

    • サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr₂O₃積層膜の成膜条件最適化 (シリコン材料・デバイス) (2015)
  • 隅田 貴士 ID: 9000313182430

    Articles in CiNii:1

    • 表面処理条件の異なるYAlO₃(001)基板上に成膜したCr₂O₃薄膜の結晶構造解析および磁気特性 (電子部品・材料) (2015)
  • Sumida Takashi ID: 9000244904801

    Articles in CiNii:18

    • YAlO₃(001)基板表面処理条件の違いによるCr₂O₃薄膜の結晶成長 (機構デバイス) -- (材料デバイスサマーミーティング) (2015)
    • YAlO₃(001)基板表面処理条件の違いによるCr₂O₃薄膜の結晶成長 (有機エレクトロニクス) -- (材料デバイスサマーミーティング) (2015)
    • YAlO₃(001)基板表面処理条件の違いによるCr₂O₃薄膜の結晶成長 (電子部品・材料) -- (材料デバイスサマーミーティング) (2015)
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