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  • KANI Rikako ID: 9000000249789

    (株)東芝研究開発センタ (1997 from CiNii)

    Articles in CiNii:2

    • Polysilanes Developable with Dilute Basic Aqueous Solution for Next Generation Lithography (1997)
    • 機能性ポリシランの合成とそれを使った配向薄膜 (1993)
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