真空ナノテクノロジー　　表面・界面評価と新物質創製　　クラスターイオン注入とデバイスプロセス

• 山田 公

  京都大学イオン工学実験施設

• 松尾 二郎

  京都大学イオン工学実験施設

• 豊田 紀章

  京都大学イオン工学実験施設

• 青木 学聡

  京都大学イオン工学実験施設

書誌事項

タイトル別名

• Vacuum Nanotechnology. Synthesis of New Materials and Characterization of Surfaces and Interfaces. Cluster Ion Implantation and Device Processes.
• クラスターイオン チュウニュウ ト デバイスプロセス

収録刊行物

• 真空

  真空 41 (11), 932-939, 1998

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679040696448
• NII論文ID: 10001960835
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.41.932
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 4616456
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4616456
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles