湿式法による化合物薄膜の作製・構造と物性　　電解法によるＥＣＤ用イリジウム酸化物薄膜の作製

• 吉野 隆子

  東京都立大学大学院工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Preparation of Thin-Films by Wet Method-Their Structure and Properties. Preparation of Iridium Oxide Films for ECD by Electrodeposition.
• デンカイホウ ニヨル ECDヨウ イリジウム サンカブツ ハクマク ノ サクセ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 49 (1), 20-24, 1998

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Iridium Oxide Films
• Electrochromism
• Electrodeposition
• Optical Density
• Oxidation and Reduction

詳細情報

• CRID: 1390282679091163520
• NII論文ID: 10002108372
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.49.20
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4367216
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4367216
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles