めっき析出過程の基礎解析　　透過型電子顕微鏡によるめっき膜中の混入不純物の観察

• 中原 昌平

  Lucent Technologies, Bell Laboratories

• 沖 中裕

  早稲田大学理工学総合研究センター

書誌事項

タイトル別名

• Fundamental Analyses on Electrochemical Deposition Processes. Observation of Inclusions in Plated Films by TEM.
• トウカガタ デンシ ケンビキョウ ニ ヨル メッキ マク チュウ ノ コンニュウ フジュンブツ ノ カンサツ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 50 (5), 400-407, 1999

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Electroplating
• Electroless Plating
• Inclusions
• Impurities
• TEM

詳細情報

• CRID: 1390282679091283072
• NII論文ID: 10002112350
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.50.400
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4725619
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4725619
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles