めっき析出過程の基礎解析　　磁場・重力場の影響を考慮した析出機構

• 青柿 良一

  科学技術振興事業団 埼玉研究室

書誌事項

タイトル別名

• Fundamental Analyses on Electrochemical Deposition Processes. Mechanisms of Electrochemical Plating under Magnetic and Gravitational Fields.
• ジバ ジュウリョクバ ノ エイキョウ オ コウリョ シタ セキシュツ キコウ

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 50 (5), 421-424, 1999

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Plating
• Gravity
• Magnetic Field

詳細情報

• CRID: 1390001204114574080
• NII論文ID: 10002112465
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.50.421
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 4725664
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4725664
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles