HFウエットエッチングを併用したSiO_2薄膜中NaのSIMS分析

• 渡辺 玲子

  (株)東芝 生産技術研究所

• 工藤 正博

  成蹊大学工学部計測数理工学科

書誌事項

タイトル別名

• SIMS Depth Profiling of Na in SiO_2 Films by Chemical Etching with HF Solution

収録刊行物

• 表面科学

  表面科学 16 (8), 530-531, 1995-08-10

詳細情報

• CRID: 1571698599020869248
• NII論文ID: 10002116132
• NII書誌ID: AN00334149
• ISSN: 03885321
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles