並進エネルギーを制御した塩素分子線によるシリコンのエッチング反応

• 寺岡 有殿

  日本電気(株)マイクロエレクトニクス研究所

• 西山 岩男

  日本電気(株)マイクロエレクトニクス研究所

書誌事項

タイトル別名

• Etching Reactions on Silicon Surfaces by Translational-Energy-Controlled Chlorine Molecular Beams

収録刊行物

• 表面科学

  表面科学 16 (9), 550-556, 1995-09-10

詳細情報

• CRID: 1573387448881132672
• NII論文ID: 10002116171
• NII書誌ID: AN00334149
• ISSN: 03885321
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles