選択CVD法によるSi基板上へのナノ構造形成

• 坪内 和夫

  東北大学電気通信研究所

• 益 一哉

  東北大学電気通信研究所

• 横山 道央

  東北大学電気通信研究所

書誌事項

タイトル別名

• Nano-Scale Structure Fabrication on Si Surface using Selective CVD

収録刊行物

• 表面科学

  表面科学 16 (10), 644-650, 1995-10-10

詳細情報

• CRID: 1574231873811312896
• NII論文ID: 10002116534
• NII書誌ID: AN00334149
• ISSN: 03885321
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles