マイクロ波プラズマＣＶＤ法による高温酸化クロム基板上でのダイヤモンド膜の合成

• 斎藤 英之

  室蘭工業大学

• 八木 澄子

  室蘭工業大学大学院

• 吉田 真人

  室蘭工業大学大学院 現 日本鍍金工業 (株)

• 酒井 彰

  室蘭工業大学

• 三澤 俊平

  室蘭工業大学

• 田中 壽晃

  (財) 室蘭テクノセンター

• 相馬 英明

  (財) 室蘭テクノセンター

• 田中 大之

  北海道立工業試験場

書誌事項

タイトル別名

• Synthesis of Diamond Film on Oxidized Chromium Substrate Using Microwave Plasma CVD.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 47 (11), 979-980, 1996

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Microwave Plasma CVD
• Diamond Film
• Chromium
• Oxide Film

詳細情報

• CRID: 1390001204115436288
• NII論文ID: 10002257595
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.47.979
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles