レーザアブレーション法を用いたＬｉＮｂＯ３薄膜の作製

• 筧 芳治

  大阪府立産業技術総合研究所

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 櫻井 芳昭

  大阪府立産業技術総合研究所

• 西川 義人

  大阪府立産業技術総合研究所

• 小川 倉一

  大阪府立産業技術総合研究所

• 四谷 任

  大阪科学技術センター

書誌事項

タイトル別名

• LiNbO3 Thin Film Prepared by Pulsed Laser Deposition.
• レーザアブレーションホウ オ モチイタ LiNbO3 ハクマク ノ サクセイ

抄録

A LiNbO₃ thin film was successfully fabricated onto a sapphire (001) substrate using pulsed laser deposition. The film quality was largely affected by substrate temperature, oxygen gas pressure, laser fluence and laser repetition frequency. By adjusting these conditions, a highly c-axis oriented LiNbO₃ film was obtained. The ordinary refractive index of the film became 2.28 at 632.8 nm of wavelength, which coincided with that of a LiNbO₃ single crystal. RHEED observation showed the film had twin boundaries. Further improvements are now undergoing.

収録刊行物

• 真空

  真空 42 (3), 261-264, 1999

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679040451968
• NII論文ID: 10002476415
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.42.261
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 4714965
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4714965
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可