超小型質量分析計の反応性スパッタリングプロセス計測への応用

• 伴野 達也

  東京大学工学系研究科物理工学専攻

• 道園 真一郎

  高エネルギー加速器研究機構

• 齊藤 芳男

  高エネルギー加速器研究機構

書誌事項

タイトル別名

• Application of Micropole Analyzers to the Measurement of Reactive Sputtering Processes.
• チョウコガタ シツリョウ ブンセキケイ ノ ハンノウセイ スパッタリングプロセス ケイソク エ ノ オウヨウ

抄録

During reactive sputtering processes for TiN film fabrication, a small mass analyzer (Micropole analyzer) was used to study surface reaction kinetics and to measure ionic fluxes from the peripheral plasma toward the vessel wall. A rate limiting reaction of Ar⁺-induced desorption of N₂ has been identified and its reaction cross section is evaluated. Ion fluxes increase with the increase of the plasma potential for the total pressure above 0.25 Pa.

収録刊行物

• 真空

  真空 42 (3), 388-391, 1999

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390001204065412224
• NII論文ID: 10002476655
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.42.388
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 4716467
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4716467
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可