Tetraethoxysilaneを用いたプラズマ化学蒸着法における気相での酸化分解過程

• 堀井(前田) 直宏

  福井工業高等専門学校

• 沖村 邦雄

  東海大学電子工学科

• 柴田 明

  福井工業高等専門学校

書誌事項

タイトル別名

• Study of Dissociation Processes by Oxidation in Gas Phase in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Tetraethoxysilane

収録刊行物

• 真空

  真空 42 (3), 478-, 1999-03

詳細情報

• CRID: 1571698599019374848
• NII論文ID: 10002476890
• NII書誌ID: AN00119871
• ISSN: 05598516
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles