シリコン結晶中の空洞欠陥の熱処理による消滅機構

• 棚橋 克人

  大阪府立大学先端科学研究所

• 菊池 通真

  大阪府立大学先端科学研究所

• 井上 直久

  大阪府立大学先端科学研究所

書誌事項

タイトル別名

• Dissolution Mechanism of Void Defect in Silicon Crystal during Heat Treatment

収録刊行物

• 真空

  真空 42 (3), 485-, 1999-03

詳細情報

• CRID: 1571980073996121600
• NII論文ID: 10002476907
• NII書誌ID: AN00119871
• ISSN: 05598516
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles