金属・半導体界面反応層の微細構造と電気特性

• 村上 正紀

  京都大学大学院工学研究科

• 小出 康夫

  京都大学大学院工学研究科

• 奥 健夫

  大阪大学産業科学研究所

書誌事項

タイトル別名

• Microstructural Analysis at Metal/Semiconductor Interface for Ideal Ohmic Contacts

収録刊行物

• まてりあ

  まてりあ 37 (12), 998-998, 1998

  公益社団法人 日本金属学会

キーワード

• ohmic contacts
• electrical properties
• metal/semiconductor imterface

詳細情報

• CRID: 1390282679056245248
• NII論文ID: 10002546718
• NII書誌ID: AN10433227
• DOI: 10.2320/materia.37.998
• ISSN: 18845843
• ISSN: 13402625
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/materia1994/37/12/37_12_998/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles