放射光Ｘ線結晶学で今何ができるか？　微少量・高精度・極限に迫る　全反射を利用して超薄膜を調べる

• 古宮 聰

  富士通研究所基盤技術研究所

• 淡路 直樹

  富士通研究所基盤技術研究所

• 堀井 義正

  富士通研究所基盤技術研究所

• 富田 博文

  富士通研究所基盤技術研究所

書誌事項

タイトル別名

• Frontiers in Crystallography with Synchrotron Radiation. Utilizing of Various Properties of Synchrotron Radiation. Characterization of Thin Films with X-ray Total Reflection Technology.
• ゼン ハンシャ オ リヨウシテ チョウ ハクマク オ シラベル

抄録

Characterization of thin films with x-ray total reflection is introduced. Titanium silicite thin films are studied by grazing incidence x-ray diffraction. The epitaxial C49-TiSi₂ grains are formed on heavily BF₂ ion implanted Si (001) substrate after low temperature annealing, and they suppress the phase transition from C49 to C54 during high temperature annealing. SiO₂ thin films are investigated by x-ray reflectivity analysis. Thermal oxides have always the high density interface layer of -1 nm in thickness. Extremely thin native oxides on Si is also characterized in a function of chemical cleaning solutions.

収録刊行物

• 日本結晶学会誌

  日本結晶学会誌 39 (1), 89-93, 1997

  日本結晶学会

詳細情報

• CRID: 1390282679064159744
• NII論文ID: 10002589303
• NII書誌ID: AN00188364
• DOI: 10.5940/jcrsj.39.89
• ISSN: 18845576
• ISSN: 03694585
• NDL書誌ID: 4159574
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4159574
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可