回転電極を用いた高圧力プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第1報) -成膜装置の試作とその成膜特性-

• 森 勇藏

  大阪大学工学研究科

• 芳井 熊安

  大阪大学工学研究科

• 片岡 俊彦

  大阪大学工学研究科

• 広瀬 喜久治

  大阪大学工学研究科

• 安武 潔

  大阪大学工学研究科

• 遠藤 勝義

  大阪大学工学研究科

• 垣内 弘章

  大阪大学工学研究科

Journal

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 1996 (1), 359-360, 1996-03-01

Details

• CRID: 1571417124029395840
• NII Article ID: 10002806197
• NII Book ID: AN1018673X
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • CiNii Articles