回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第4報) -a-Siの成膜速度の高速化-

• 森 勇藏

  大阪大学

• 芳井 熊安

  大阪大学

• 片岡 俊彦

  大阪大学

• 広瀬 喜久治

  大阪大学

• 安武 潔

  大阪大学

• 遠藤 勝義

  大阪大学

• 垣内 弘章

  大阪大学

• 堂本 洋一

  三洋電機(株)

• 樽井 久樹

  三洋電機(株)

• 木山 精一

  三洋電機(株)

収録刊行物

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 1997 (2), 191-, 1997-10-01

詳細情報

• CRID: 1570854174076681984
• NII論文ID: 10002870905
• NII書誌ID: AN1018673X
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles