オルト結合体ユニットを有するノボラックのフォトレジストに及ぼす影響 The Effect of the Ortho-Bonding Unit in Novolak on the Photoresist

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著者

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(4), 231-238, 1996-04-25

    高分子学会

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

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    花畑誠

    高分子論文集 45, 803, 1988

    被引用文献1件

  • <no title>

    HONDA K.

    Proc. SPIE. 1466, 141, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    KAJITA T.

    Proc. SPIE. 1466, 161, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    長谷川喜一

    日本接着学会誌 27, 359, 1991

    被引用文献3件

  • <no title>

    MARK H. F.

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    被引用文献1件

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    KNOP A.

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    被引用文献2件

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    NEMOTO H.

    Proc. SPIE 1672, 305, 1992

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283418
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3947643
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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