アルキルスルホニウム塩とメタクリル系三元共重合体からなるArFエキシマレーザ露光用化学増幅型レジストの特性 Chemically Amplified Resist for ArF Excimer Laser Lithography Composed of an Alkylsulfonium Salt Photoacid Generator and an Alicyclic Terpolymer

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収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(4), 239-247, 1996-04-25

    高分子学会

参考文献:  17件中 1-17件 を表示

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    DOI 被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283426
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    3947644
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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