化学増幅系3成分ポジ型電子線レジストにおけるレジスト高感度化

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収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 53(8), 488-495, 1996-08-25

    高分子学会

参考文献:  24件中 1-24件 を表示

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    堀邊英夫

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  • ポリ(p-ビニルフェノール)のネガ型電子線レジストへの適用

    堀邊英夫

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被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003283955
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    4021100
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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