2. CVD プロセス技術と反応装置 総論

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収録刊行物

  • 化学工学

    化学工学 60(12), 868-869, 1996-12-05

    化学工学会

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

  • <no title>

    MRS Conference Proceedings. Advanced Metallization and Interconnect Systems for ULSI Applications.

    被引用文献1件

  • 超 LSI 技術への招待

    化学工学 51, 335, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    化学工学会編

    化学技術者のための超 LSI 技術入門, 1989

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003808222
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037212
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03759253
  • NDL 記事登録ID
    4087365
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-53
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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