3. 各種 CVD 薄膜形成技術 化合物半導体薄膜のMOCVD

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  • 化学工学

    化学工学 60(12), 878-880, 1996-12-05

    化学工学会

参考文献:  23件中 1-23件 を表示

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  • Magnetization of Ceramic Y–Ba–Cu–O and Bi–Sr–Ca–Cu–O after Neutron Irradiation

    Takamura Saburo , Sekino Hajime , Matushima Hideo , Kobiyama Mamoru , Hoshiya Taiji , Sumiya Keiji , Kuwajima Hideji

    Jpn J Appl Phys 30(1A), L18-L20, 1991-01-20

    応用物理学会 被引用文献131件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10003808282
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037212
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03759253
  • NDL 記事登録ID
    4087370
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-53
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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