ダイヤモンド薄膜のヘテロエピタキシャル成長と最近の進展

• 斉藤 丈靖

• 草壁 克己

• 諸岡 成治

書誌事項

タイトル別名

• ダイヤモンド ハクマク ノ ヘテロエピタキシャル セイチョウ ト サイキン ノ
• (特集)レビュー CVD ; 各種CVD薄膜形成技術
• トクシュウ レビュー CVD ; カクシュ CVD ハクマク ケイセイ ギジュツ

収録刊行物

• 化学工学 = Chemical engineering of Japan

  化学工学 = Chemical engineering of Japan 60 (12), 881-882, 1996-12

  東京 : 化学工学会

詳細情報

• CRID: 1520572359249622912
• NII論文ID: 10003808306
• NII書誌ID: AN00037212
• ISSN: 03759253
• NDL書誌ID: 4087371
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4087371
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles