レーザーCVD法による酸化物薄膜の低温形成

• 時田 浩司

• 岡田 文雄

書誌事項

タイトル別名

• レーザー CVDホウ ニヨル サンカブツ ハクマク ノ テイオン ケイセイ

収録刊行物

• 化学工学 = Chemical engineering of Japan

  化学工学 = Chemical engineering of Japan 61 (6), 436-437, 1997-06

  東京 : 化学工学会

詳細情報

• CRID: 1520290882973152768
• NII論文ID: 10003809444
• NII書誌ID: AN00037212
• ISSN: 03759253
• NDL書誌ID: 4216720
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4216720
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles