赤外エバネッセント光によるシリコンウェハ加工表面層の微小欠陥検出に関する研究-エバネッセント光発生メカニズムのFDTD解析-

• 剱持 妥茂哉

  大阪大学

• 三好 隆志

  大阪大学

• 高谷 裕浩

  大阪大学

• 高橋 哲

  大阪大学

収録刊行物

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 1999 (2), 566-, 1999-09-01

詳細情報

• CRID: 1573668924000484608
• NII論文ID: 10004436156
• NII書誌ID: AN1018673X
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles