REACTIVE ION BEAM ETCHING (RIBE) TECHNIQUE FOR CROSS SECTIONAL SEM SPECIMEN PREPARATION OF SEMICONDUCTORS

• ALANI R.

  Gatan R&D

• MITRO R.J.

  Gatan R&D

• OGURA K.

  JEOL Ltd.

収録刊行物

• 電子顕微鏡

  電子顕微鏡 34 83-, 1999-05-01

詳細情報

• CRID: 1570854174275441792
• NII論文ID: 10004538819
• NII書誌ID: AN00145000
• ISSN: 04170326
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • CiNii Articles