シリコンウェハ加工表面欠陥のナノインプロセス計測に関する研究(第10報) -光散乱パターンを用いたCOP欠陥検出-

• 平田 文彦

  大阪大学大学院工学研究科

• 三好 隆志

  大阪大学大学院工学研究科

• 高谷 裕浩

  大阪大学大学院工学研究科

• 高橋 哲

  大阪大学大学院工学研究科

収録刊行物

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 1999 (1), 440-, 1999-03-05

詳細情報

• CRID: 1571417124226636928
• NII論文ID: 10004628019
• NII書誌ID: AN1018673X
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles