基礎編:半導体材料・プロセスの物理と設計(3)原子拡散のミクロな機構

• 押山 淳

書誌事項

タイトル別名

• キソヘン ハンドウタイ ザイリョウ プロセス ノ ブツリ ト セッケイ 3 ゲンシ カクサン ノ ミクロ ナ キコウ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 68 (10), 1167-1170, 1999-10

  東京 : 応用物理学会

詳細情報

• CRID: 1520572360204261504
• NII論文ID: 10004650975
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 4864415
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4864415
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles