金属インプリント法による多結晶シリコンの核発生制御 Metal imprinting for grain positioning of Si films and its application to thin film transistors

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著者

    • 浅野 種正 ASANO Tanemasa
    • 九州工業大学マイクロ化総合技術センター Center for Microelectronic Systems, Kyushu Institute of Technology
    • 牧平 憲治 MAKIHIRA Kenji
    • 九州工業大学マイクロ化総合技術センター Center for Microelectronic Systems, Kyushu Institute of Technology

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 71(5), 557-561, 2002-05-10

    応用物理学会

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

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    DOI 被引用文献33件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008201032
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    6127847
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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