金属負イオン注入による二酸化チタンルチルの光触媒効率の改善

• 辻 博司

  京都大学工学研究科電子物性工学

• 菅原 弘允

  京都大学工学研究科電子物性工学

• 鷺森 友彦

  京都大学工学研究科電子物性工学

• 本野 正徳

  京都大学工学研究科電子物性工学

• 後藤 康仁

  京都大学工学研究科電子物性工学

• 石川 順三

  京都大学工学研究科電子物性工学

書誌事項

タイトル別名

• Improvement of Photocatalytic Efficiencies of Rutile TiO2 by Metal Negative Ion Implantation.
• キンゾクフイオン チュウニュウ ニ ヨル 2サンカ チタン ルチル ノ ヒカリ ショクバイ コウリツ ノ カイゼン

抄録

Photocatalytic properties of Cu negative-ion implanted TiO₂ (rutile) were investigated as well as light absorption properties due to surface plasmon resonance of Cu nanoparticles in TiO₂. Cu negative ions were implanted into TiO₂ at 50 keV and also catalytic efficiencies were measured by decolorization method of methylene blue solution. After thermal treatment at 400°C, implanted sample showed an optical absorption peak at a photon energy 1.9 eV. This photon energy of absorption peaks well agreed with an estimate value of surface plasmon resonance calculated by Mie's theory with n = 2.71. In the catalytic test with methylene blue under irradiation of a fluorescent light, Cu-implanted rutile (50 keV, 7 × 10¹⁶ ions/cm², 400°C annealed) showed 1.8 times the catalytic efficiency of the unimplanted rutile.

収録刊行物

• 真空

  真空 45 (3), 177-180, 2002

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679041435520
• NII論文ID: 10008202886
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.45.177
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 6144192
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6144192
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可