高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 守 昭人

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 坂本 淳

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 谷 善之

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 青木 孝憲

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学工学部電子物理工学科

書誌事項

タイトル別名

• Transparent Conducting Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Using High Power ArF Excimer Laser.
• コウシュツリョク エキシマレーザー オ モチイタ パルスレーザー タイセキホウ デ サクセイ シタ サンカ インジウムスズ トウメイ ドウデン マク

抄録

In₂O₃ doped with 5 wt% SnO₂ (indium-tin oxide (ITO) (5 wt%)) films were deposited on glass substrates by pulsed laser deposition using an ArF excimer laser (λ= 193 nm). In all experiments, repetition rates of 150 Hz, the energy density of 6 J/cm², and an ablation time of 30-900 sec were used. A lowest resistivity of 8.45 × 10^-5 Ω ·cm and an optical transmittance of more than 80% in the visible range of the spectrum were obtained for ITO (5 wt%) films of approximately 300-nm thickness fabricated at a substrate temperature of 400°C and oxygen pressure of 10 Pa. Smooth surfaces with an average surface roughness of 1.26 nm were observed by field-emission scanning electron microscopy (FESEM) and atomic force microscopy (AFM).

収録刊行物

• 真空

  真空 45 (3), 243-246, 2002

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679041500032
• NII論文ID: 10008203066
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.45.243
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/05598516
• NDL書誌ID: 6144573
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6144573
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可