解説 圧力印加による新半導体リソグラフィー技術

• 谷口 淳

• 宮本 岩男

• 古室 昌徳

書誌事項

タイトル別名

• カイセツ アツリョク インカ ニ ヨル シン ハンドウタイ リソグラフィー ギジュツ

収録刊行物

• 圧力技術 / 日本高圧力技術協会 [編]

  圧力技術 / 日本高圧力技術協会 [編] 40 (3), 150-155, 2002

  東京 : 日本高圧力技術協会

キーワード

• nanoimprint lithography
• diamond mold
• polymethylmethacrylate
• PMMA
• silicon substrate
• aluminum
• reactive ion etching
• RIE

詳細情報

• CRID: 1520853832118106752
• NII論文ID: 10008472716
• NII書誌ID: AN00011762
• ISSN: 03870154
• NDL書誌ID: 6173675
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6173675
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP1(科学技術--化学・化学工業)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles