回転電極型大気圧プラズマCVD法によるSiN-X膜の成膜に関する研究(SiH4/NH3系成膜)  [in Japanese]

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  • 精密工学会大会学術講演会講演論文集

    精密工学会大会学術講演会講演論文集 2002(1), 613, 2002-03-01

References:  1

  • <no title>

    中濱

    2001年度精密工学会秋季大会学術講演論文集 252

    Cited by (1)

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10008501185
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN1018673X
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    Proceedings
  • Data Source
    CJP  CJPref 
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