回転電極型大気圧プラズマCVD法によるSiN-X膜の成膜に関する研究(SiH4/NH3系成膜)
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- 精密工学会大会学術講演会講演論文集
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精密工学会大会学術講演会講演論文集 2002 (1), 613-, 2002-03-01
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1572261549569402496
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- NII Article ID
- 10008501185
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- NII Book ID
- AN1018673X
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- CiNii Articles