次世代LSI配線用低誘電率多孔質シリカ膜の開発  [in Japanese] Nanoporous Silica Films for Ultra Low-κ Applications  [in Japanese]

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  • Ceramics Japan

    Ceramics Japan 36(12), 933-935, 2001-12-01

    日本セラミックス協会

References:  7

Cited by:  1

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10008568146
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN00131516
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    Journal Article
  • ISSN
    0009031X
  • NDL Article ID
    5996989
  • NDL Source Classification
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL Call No.
    Z17-206
  • Data Source
    CJP  CJPref  NDL 
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