プラズマ CVD 準絶縁性アモルファスシリコン窒化膜の組成制御技術
書誌事項
- タイトル別名
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- Composition control techniques of semiinsulating amorphous silicon nitride films deposited by plasma CVD
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収録刊行物
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- 應用物理
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應用物理 71 (7), 895-896, 2002-07-10
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1571980074576573440
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- NII論文ID
- 10008830681
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 03698009
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles