Co/中間層/(100) Si構造における直接エピCoSi<SUB>2</SUB>形成

• 小川 真一

  松下電器産業株式会社半導体社プナセス開発センター

書誌事項

タイトル別名

• Direct Epi-CoSi<SUB>2</SUB> Formation from Co/intermediate Layer/(100) Si

収録刊行物

• まてりあ

  まてりあ 40 (12), 999-999, 2001

  公益社団法人 日本金属学会

キーワード

• epitaxial CoSi<SUB>2</SUB>
• ultra-large-scale integration material
• electrode

詳細情報

• CRID: 1390001204079206656
• NII論文ID: 10008847781
• NII書誌ID: AN10433227
• DOI: 10.2320/materia.40.999
• ISSN: 18845843
• ISSN: 13402625
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/materia1994/40/12/40_12_999/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles