DRAM用誘電体Ba<SUB><I>x</I></SUB>Sr<SUB>1-<I>x</I></SUB>TiO<SUB>3</SUB>スパッタ膜の微細構造

• 友清 芳二

  九州大学大学院工学研究院材料工学部門

• 土井良 一剛

• 田中 鋏士

  九州大学超高圧電顕室

• 黒岩 丈晴

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

書誌事項

タイトル別名

• Microstructures of Dielectric Ba<SUB><I>x</I></SUB>Sr<SUB>1-<I>x</I></SUB>TiO<SUB>3</SUB> Prepared by RF Sputtering;

収録刊行物

• まてりあ

  まてりあ 40 (12), 1015-1015, 2001

  公益社団法人 日本金属学会

キーワード

• Ba<SUB>x</SUB>Sr<SUB>1</SUB>-<SUB>x</SUB>TiO<SUB>3</SUB>
• dielectric constant
• DRAM
• grain size
• epitaxy

詳細情報

• CRID: 1390282679055837312
• NII論文ID: 10008847828
• NII書誌ID: AN10433227
• DOI: 10.2320/materia.40.1015
• ISSN: 18845843
• ISSN: 13402625
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/materia1994/40/12/40_12_1015/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles