総合報告 半導体プラズマエッチング技術の研究展開--ASET成果報告と技術展望

• 関根 誠

書誌事項

タイトル別名

• ソウゴウ ホウコク ハンドウタイ プラズマエッチング ギジュツ ノ ケンキュウ テンカイ ASET セイカ ホウコク ト ギジュツ テンボウ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 70 (4), 387-397, 2001-04

  東京 : 応用物理学会

キーワード

• semiconductor device fabrication
• etching
• plasma
• SiO2
• silicon dioxide
• modeling
• monitor
• plasma diagnostics
• surface reaction
• RIE
• fluorocarbon gas

詳細情報

• CRID: 1520009407290938112
• NII論文ID: 10008980653
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 5730188
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5730188
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles