解説 プロセス用プラズマにおける励起周波数の効果

• 菅井 秀郎

書誌事項

タイトル別名

• カイセツ プロセスヨウ プラズマ ニ オケル レイキシュウハスウ ノ コウカ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 70 (4), 398-404, 2001-04

  東京 : 応用物理学会

キーワード

• processing plasma
• excitation frequency
• electron temperature
• electron energy distribution function
• volume heating
• surface heating

詳細情報

• CRID: 1520572357123584256
• NII論文ID: 10008980729
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 5730230
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5730230
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles