大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiの高速成膜に関する研究(第3報)-高速形成a-Si薄膜の電気 光学特性-

• 森勇藏

収録刊行物

• 精密工学会誌

  精密工学会誌 67 (5), 829-, 2001

詳細情報

• CRID: 1574231874490831360
• NII論文ID: 10009266981
• データソース種別:
  • CiNii Articles