CMP加工によるSiウェハ酸化膜欠陥の光散乱シミュレーション

• TAEHO Ha

  大阪大学

• 三好 隆志

  大阪大学

• 高谷 裕浩

  大阪大学

• 高橋 哲

  大阪大学

収録刊行物

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 2000 (1), 603-, 2000-03-01

詳細情報

• CRID: 1570291224777062400
• NII論文ID: 10009886132
• NII書誌ID: AN1018673X
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles