高分解能ラザフォード後法散乱法を用いた極浅ドーパントの深さプロファイル分析 Depth Profiling of Ultra-shallow Dopant with High-resolution Rutherford Backscattering Spectroscopy

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  • 真空

    真空 46(11), 767-771, 2003-11-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  19件中 1-19件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012512289
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    6762386
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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