パルスレーザデポジション法による二酸化チタン光触媒薄膜の作製 Characteristics of TiO_2 Thin Film as a Photocatalyst Prepared Using the Pulsed Laser Deposition Method

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  • 表面技術 = The journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The journal of the Surface Finishing Society of Japan 54(11), 754-757, 2003-11-01

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012548885
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • データ提供元
    CJP書誌 
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