Absolute Density and Sticking Probability of the CN(X$^{2}\Sigma^{+}$) Radicals Produced by the Dissociative Excitation Reaction of BrCN with the Microwave Discharge Flow of Ar

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抄録

The 4-0, 5-1, and 7-2 bands of the A$^{2}\Pi_{i}$–X$^{2}\Sigma^{+}$ transition of the CN radical produced by the dissociative excitation reaction of BrCN with the microwave discharge flow of Ar were observed by laser induced fluorescence (LIF) spectroscopy. The intensity of the LIF spectrum of the individual transition was evaluated by a spectral simulation analysis, and converted to the absolute value by calibrating against Rayleigh scattering by Ar atoms. The effective lifetime of the A$^{2}\Pi_{i}$ state was measured to be 2.2(5) μs. The absolute number density of the CN(X$^{2}\Sigma^{+}$) radicals in the observation region of LIF was evaluated to be $1.5(3)\times 10^{20}$ m-3. Based on this value, the pumping speed, and the amount of $a$-CNx:H film deposited, the sticking probability of the CN radicals onto the $a$-CNx:H films was estimated to be 0.01.

収録刊行物

  • Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes

    Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes 42(11), 7116-7121, 2003-11-15

    公益社団法人 応用物理学会

参考文献:  32件中 1-32件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012564886
  • NII書誌ID(NCID)
    AA10457675
  • 本文言語コード
    EN
  • 資料種別
    ART
  • 雑誌種別
    大学紀要
  • ISSN
    0021-4922
  • NDL 記事登録ID
    6753147
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z53-A375
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE  JSAP 
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