放射光リソグラフィーによる三次元マイクロ・ナノ構造の形成 Three-dimensional micro/nanostructures formed by synchrotron radiation lithography

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著者

    • 杉山 進 SUGIYAMA Susumu
    • 立命館大学理工学部マイクロ機械システム工学科 Department of Micro System Technology, College of Science and Engineering, Ritsumeikan University

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 73(4), 466-469, 2004-04-10

    応用物理学会

参考文献:  17件中 1-17件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012857380
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    6911436
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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