Cu-9%Al(111)上に成長したエピタキシャルアルミナ膜の表面観察 Surface Study and Morphology of Thin Alumina Film on Cu-9%Al(111)

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抄録

We succeeded in growing the flat Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film on the Cu-9%Al (111) single crystal surface over a large area using the improved cleaning process, that is, low Ar ion energy and short time sputtering, and investigated the surface morphology and natures of chemical bond of Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film on the Cu-9%Al by means of Auger electron spectroscopy (AES) and a scanning electron microscopy (SEM). The Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film surface prepared by this method was uniformly flat, and the maximum thickness was about 4.0 nm. The Al and O KLL Auger peaks from Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film shifted toward low kinetic energy, and the shift reflected to band bending in the Al203 film near interface.

収録刊行物

  • 真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN

    真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 47(3), 159-162, 2004-03-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  13件中 1-13件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012867049
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    6929425
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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